Asi najlepšie spracovaný prvý kontakt s týmto objektívom nájdete tu:
http://www.thephoblographer.com/2015/01/07/first-impressions-fujifilm-16-55mm-f2-8-r-lm-wr-x-mount/#more-69158
Ja sa predbežne najmä kvôli cene, hmotnosti a rozmerom uspokojím so setovým XF 18-55mm R LM OIS. Na novinke je v porovnaní s menším zoomom zaujímavý aj clonový prstenec s označením clonových čísel .
Tu je tiež niečo zaujímavé:
Tlačová správa:
FUJIFILM Corporation (prezident: Shigehiro Nakajima) s hrdosťou ohlasuje uvedenie nového objektívu FUJINON XF16-55mmF2.8 R LM WR ktorý rozšíri ponuku objektívov pre X sériu vo Februári 2015.
Objektív je utesnený voči poveternostným podmienkam a v
celom rozsahu (24-84mm ekvivalent ku 35mm) má konštantnú svetelnosť f2.8. Na
objektíve je použitá nova technológia ochrannej vrstvy Nano-GI* (Gradient
Index) ktorá efektívne zabraňuje vzniku tieňov alebo nežiadúceho závoja Jedná
sa o praktický štandardný zoom objektív, ktorý pokrýva široký rozsah použitia -
širokouhlý 24mm ekvivalent vhodný pre fotografovanie krajiny, stredný
teleobjektív 84mm ekvivalent, ideálny pre portréty.
XF16-55mm využíva lineárny motor, čo umožňuje pohodlné
fotografovanie s tichým a rýchlym zaostrovaním. Vďaka utesnenej konštrukcii je
objektív odolný nepriazni počasia či prachu a môže pracovať v teplotách až
-10°C.
* Technológia nepravidelnej štruktúry nano-povrchu na
objektíve aby sa znížila jeho odraznosť.
Hlavné črty
Štandardný zoom-objektív s cieľom maximálnej kvality obrazu
Aby sa dosiahla najlepšia kvalita obrazu vo svojej triede,
objektív sa skladá zo 17 prvkov v 12 skupinách. To zahŕňa tri asférické prvky
pre minimálnu sférickú aberáciu a skreslenie, a tri členy z ED skla objektívu k
zníženiu laterálnu a axiálnu chromatickú aberáciu, čím sa dosiahne ostrosť od
okraja k okraju v celom rozsahu zoomu.
Použitie Fujifilm technológie HT-EBC (High Transmittance
Electron Beam Coating) na celej ploche povrchu šošovky zabraňuje vzniku tieňov
alebo závoja aby bol zachytený ostrý a jasný obraz. Tiež pomocou novo vyvinutej
technológie povrchovej úpravy Nano-GI, ktorá mení index lomu medzi sklom a
vzduchom, zdvojenie a závoj sú účinne potlačené aj pri diagonálne dopadajúcom
svetle.
Deväť zaoblených lamiel clony pre hladký a kruhový bokeh.
Kombináciou tohto objektívu s fotoaparátom** s technológiou
Lens Modulation Optimiser*** (LMO) je možné dosiahnuť najlepšie výsledky. LMO
opraví difrakciu*4 a produkuje obrazy s vysokou ostrosťou v celom obraze a realistický
trojrozmerný efekt, a to aj pri nízkej clone.
** U fotoaparátov “FUJIFILM X-T1”,
“FUJIFILM X-T1GS” a “FUJIFILM X-E2” od Januára 2015.
*** Funkcia pre spracovanie obrazu,
ktorá opravuje optické účinky difrakcie.
Rýchle a tiché automatické zaostrovanie vďaka lineárnym
motorom
Vnútorný zaostrovací
systém*5 sa používa pre vysokorýchlostný AF. Znížením hmotnosti objektívu a
použitím dvojitého lineárneho motora, sa umožnilo rýchle a tiché zaostrenie. AF
je schopný zaostriť už do rýchlosť 0,06 sekundy pri použití tela** s Phase
Detection AF. Vďaka tichej uzávierke môžete fotografovať bez povšimnutia
okolia.
*5 Systém pohybu malej šošovky v strednej a zadnej časti
objektívu, bez pohybu veľkých šošoviek tvoriacich prednú časť
Dokonalé utesnenie
Objektív je utesnený na 14 miestach, vďaka čomu je odolný
proti poveternostným vplyvom, proti prachu a teplotám do -10°C takže je ideálny
spoločník pre X-T1, ktorý ponúka rovnakú úroveň.
Kvalitné vyhotovenie
Ostriaci aj clonový prstenec sú kovové, a kov sa používa aj
na vonkajšej strane objektívu. Vyhotovenie objektívu je veľmi precízne a
bajonet objektívu je vyrobený z mosadze pre zvýšenú pevnosť
Funkcia AF+MF umožňuje presné ručné ostrenie. Po stlačení
tlačidla spúšte pre automatické zaostrovanie na subjekt, je možné jemne
manuálne doladiť zaostrenie pomocou zaostrovacieho prstenca.*6
*6 Funkcia pre manuálne zaostrenie
otáčaním zaostrovacieho krúžku pri stlačení spúšte do polovice v priebehu zámku
AF. Aktualizácia firmware je nutné pre telo fotoaparátu, aby bolo možné použiť
túto funkciu.
(Iba pre modely: X-Pro1/X-E1/X-E2/X-T1/X-T1GS)
Technická špecifikácia
Typ
|
FUJINON
XF16-55mmF2.8 R LM WR
|
Konštrukcia
objektívu
|
17 prvkov,
12 skupín
(3
asférické a 3 nízko-disperzné prvky)
|
Ohnisková
vzdial. (35mm ekvivalent)
|
f=16-55mm (24-84mm)
|
Uhol
záberu
|
83.2°~29°
|
Min clona
|
F2.8
|
Max. clona
|
F22
|
Nastavenie
clony
Počet
lamiel
Krok
|
9(zaoblené lemely)
1/3EV (19 krokov)
|
Ostriaca
vzdialenosť
|
Normal:0.6m~∞
Macro: 30cm~10m(širokouhlé), 40cm~10m (telephoto)
|
Max.
priblíženie
|
0.16x (telefoto)
|
Rozmery:
priemer x dĺžka (cca)
(vzdialenosť od bajonetu)
|
φ83.3mm x
106.0mm (širokouhlé)/129.5mm(telefoto)
|
Hmotnosť
(cca)
(bez
slnečnej clony a krytiek)
|
655g
|
Priemer
filtrov
|
φ77mm
|
Hej Jozef , všetci sa musíme uspokojiť s tým čo máme ... ! (-: Tých 16 na začiatku je však lepších ako 18 ... , aj tá svetelnosť v celom rozsahu je fasa ... (-: Všetko dobré všetkým fotografom a ľuďom dobrej vôle v novom roku ... ! (-:
OdpovedaťOdstrániť