štvrtok, 8. januára 2015

Fujifilm 16-55mm F2.8 R LM WR

Novinka v podobe profesionálneho zoomu XF 16-55mm F2,8 prišla na trh presne podľa očakávaní (a neoficiálnych vyhlásení Fujifilmu). Na kompaktné rozmery zabudnite. Hmotnosť plnokrvného F2,8 zoomu si všimnete hneď na prvý pohľad. Vietor v peňaženke takisto. Odmenou vám bude ostrá kresba, rýchly AF a praktický rozsah ohniskových vzdialeností.

Asi najlepšie spracovaný prvý kontakt s týmto objektívom nájdete tu:
http://www.thephoblographer.com/2015/01/07/first-impressions-fujifilm-16-55mm-f2-8-r-lm-wr-x-mount/#more-69158


Ja sa predbežne najmä kvôli cene, hmotnosti a rozmerom uspokojím so setovým XF 18-55mm R LM OIS. Na novinke je v porovnaní s menším zoomom zaujímavý aj clonový prstenec s označením clonových čísel .

Tu je tiež niečo zaujímavé: 




Tlačová správa:
FUJIFILM Corporation (prezident: Shigehiro Nakajima) s hrdosťou ohlasuje uvedenie nového objektívu FUJINON XF16-55mmF2.8 R LM WR ktorý rozšíri ponuku objektívov pre X sériu vo Februári 2015.

Objektív je utesnený voči poveternostným podmienkam a v celom rozsahu (24-84mm ekvivalent ku 35mm) má konštantnú svetelnosť f2.8. Na objektíve je použitá nova technológia ochrannej vrstvy Nano-GI* (Gradient Index) ktorá efektívne zabraňuje vzniku tieňov alebo nežiadúceho závoja Jedná sa o praktický štandardný zoom objektív, ktorý pokrýva široký rozsah použitia - širokouhlý 24mm ekvivalent vhodný pre fotografovanie krajiny, stredný teleobjektív 84mm ekvivalent, ideálny pre portréty.
XF16-55mm využíva lineárny motor, čo umožňuje pohodlné fotografovanie s tichým a rýchlym zaostrovaním. Vďaka utesnenej konštrukcii je objektív odolný nepriazni počasia či prachu a môže pracovať v teplotách až -10°C.
* Technológia nepravidelnej štruktúry nano-povrchu na objektíve aby sa znížila jeho odraznosť.
Hlavné črty
Štandardný zoom-objektív s cieľom maximálnej kvality obrazu
Aby sa dosiahla najlepšia kvalita obrazu vo svojej triede, objektív sa skladá zo 17 prvkov v 12 skupinách. To zahŕňa tri asférické prvky pre minimálnu sférickú aberáciu a skreslenie, a tri členy z ED skla objektívu k zníženiu laterálnu a axiálnu chromatickú aberáciu, čím sa dosiahne ostrosť od okraja k okraju v celom rozsahu zoomu.
Použitie Fujifilm technológie HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) na celej ploche povrchu šošovky zabraňuje vzniku tieňov alebo závoja aby bol zachytený ostrý a jasný obraz. Tiež pomocou novo vyvinutej technológie povrchovej úpravy Nano-GI, ktorá mení index lomu medzi sklom a vzduchom, zdvojenie a závoj sú účinne potlačené aj pri diagonálne dopadajúcom svetle.
Deväť zaoblených lamiel clony pre hladký a kruhový bokeh.
Kombináciou tohto objektívu s fotoaparátom** s technológiou Lens Modulation Optimiser*** (LMO) je možné dosiahnuť najlepšie výsledky. LMO opraví difrakciu*4 a produkuje obrazy s vysokou ostrosťou v celom obraze a realistický trojrozmerný efekt, a to aj pri nízkej clone.

**  U fotoaparátov “FUJIFILM X-T1”, “FUJIFILM X-T1GS” a “FUJIFILM X-E2” od Januára 2015.
***  Funkcia pre spracovanie obrazu, ktorá opravuje optické účinky difrakcie.
Rýchle a tiché automatické zaostrovanie vďaka lineárnym motorom
 Vnútorný zaostrovací systém*5 sa používa pre vysokorýchlostný AF. Znížením hmotnosti objektívu a použitím dvojitého lineárneho motora, sa umožnilo rýchle a tiché zaostrenie. AF je schopný zaostriť už do rýchlosť 0,06 sekundy pri použití tela** s Phase Detection AF. Vďaka tichej uzávierke môžete fotografovať bez povšimnutia okolia.

*5 Systém pohybu malej šošovky v strednej a zadnej časti objektívu, bez pohybu veľkých šošoviek tvoriacich prednú časť
Dokonalé utesnenie
Objektív je utesnený na 14 miestach, vďaka čomu je odolný proti poveternostným vplyvom, proti prachu a teplotám do -10°C takže je ideálny spoločník pre X-T1, ktorý ponúka rovnakú úroveň.
Kvalitné vyhotovenie
Ostriaci aj clonový prstenec sú kovové, a kov sa používa aj na vonkajšej strane objektívu. Vyhotovenie objektívu je veľmi precízne a bajonet objektívu je vyrobený z mosadze pre zvýšenú pevnosť
Funkcia AF+MF umožňuje presné ručné ostrenie. Po stlačení tlačidla spúšte pre automatické zaostrovanie na subjekt, je možné jemne manuálne doladiť zaostrenie pomocou zaostrovacieho prstenca.*6

*6 Funkcia pre manuálne zaostrenie otáčaním zaostrovacieho krúžku pri stlačení spúšte do polovice v priebehu zámku AF. Aktualizácia firmware je nutné pre telo fotoaparátu, aby bolo možné použiť túto funkciu.
(Iba pre modely: X-Pro1/X-E1/X-E2/X-T1/X-T1GS)



Technická špecifikácia
Typ
FUJINON XF16-55mmF2.8 R LM WR
Konštrukcia objektívu
17 prvkov, 12 skupín
(3 asférické a 3 nízko-disperzné prvky)
Ohnisková vzdial. (35mm ekvivalent)
f=16-55mm (24-84mm)
Uhol záberu
83.2°29°
Min clona
F2.8
Max. clona
F22
Nastavenie clony
Počet lamiel
Krok

9zaoblené lemely
1/3EV (19 krokov)
Ostriaca vzdialenosť
Normal0.6m
Macro 30cm10mširokouhlé, 40cm10m (telephoto)
Max. priblíženie
0.16x telefoto
Rozmery: priemer x dĺžka (cca)
vzdialenosť od bajonetu
φ83.3mm x 106.0mm (širokouhlé)/129.5mmtelefoto)
Hmotnosť (cca)
(bez slnečnej clony a krytiek
655g
Priemer filtrov
φ77mm


1 komentár:

  1. Hej Jozef , všetci sa musíme uspokojiť s tým čo máme ... ! (-: Tých 16 na začiatku je však lepších ako 18 ... , aj tá svetelnosť v celom rozsahu je fasa ... (-: Všetko dobré všetkým fotografom a ľuďom dobrej vôle v novom roku ... ! (-:

    OdpovedaťOdstrániť